分 子 量:382.56
密 度:8.64g/cm3
熔 点:2400℃
在10-4Torr下的蒸发温度:1600℃
性 质:难熔,极微溶于水,微溶于无机酸;失氧;
应 用:用于玻璃中作为一种粉红色剂
北京石久高研金属材料有限公司下设镀膜材料、溅射靶材、金属粉末、高纯材料等事业部,热烈欢迎新老客户垂询。我公司秉承以诚信为本,科技为本的理念,致力打造成金属新材料行业的领头羊。
主要产品:
磁控溅射靶材
(可为电子与半导体,平面显示行业,建筑与汽车玻璃行业,薄膜太阳能电池行业,磁存储行业,工具行业,装饰行业提供高品质靶材)
高纯单质金属溅射靶材(3N-6N):铝靶材Al,铬靶材Cr,铜靶材Cu,镍靶材Ni,硅靶材Si,锗靶材Ge,铌靶材Nb,钛钯材Ti,铟靶材In,银靶材Ag,锡靶材Sn,石墨靶材C,钽靶材Ta,钼靶材Mo,金靶材Au,铪靶材Hf,锰靶材Mn,锆靶材Zr,镁靶材Mg,锌靶材Zn,铅靶材Pb,铱靶材Ir,钇靶材Y,铈靶材Ce,镧靶材La,镱靶材Yb,钆靶材Gd,铂靶材Pt等高纯单质金属溅射靶材。
高密度陶瓷溅射靶材(3N-5N):ITO靶材、AZO靶材,IGZO靶材,氧化镁靶材MgO、氧化钇靶材Y2O3,氧化铁靶材Fe2O3,氧化镍靶材Ni2O3,氧化铬靶材Cr2O3、氧化锌靶材ZnO、硫化锌靶材ZnS、硫化镉靶材CdS,硫化钼靶材MoS2,二氧化硅靶材SiO2、一氧化硅靶材SiO、二氧化锆靶材ZrO2、五氧化二铌靶材Nb2O5、二氧化钛靶材TiO2,二氧化铪靶材HfO2,二硼化钛靶材TiB2,二硼化锆靶材ZrB2,三氧化钨靶材WO3,三氧化二铝靶材Al2O3,五氧化二钽靶材Ta2O5、氟化镁靶材MgF2、硒化锌靶材ZnSe、氮化铝靶材AlN,氮化硅靶材Si3N4,氮化硼靶材BN,氮化钛靶材TiN,碳化硅靶材SiC,铌酸锂靶材、钛酸镨靶材、钛酸钡靶材、钛酸镧靶材等高密度陶瓷溅射靶材.
备注:CNM生产的陶瓷靶材采用世界最先进的陶瓷生产工艺—惰性气体保护热等静压烧结技术,相对密度大于95-99%。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。
展望未来,与时俱进。我们将始终坚持“品质就是生命,信誉就是效益”的经营理念,凭借强大的科研实力和精良的制造设备 ,以及对客户高度的责任心 ,相信明辰必将成为行业的领跑者,与广大客户携手共进,合作双赢,一起迎接明天的辉煌。
我们热情欢迎国内外客户参观访问、来电咨询,“期待与您共创辉煌、共同发展”!
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