高研金属材料有限公司

化学符号：Al 

纯度：3N-6N
原 子 量：26.98154 

规格：Φ3*3,Φ6*6,10*10*2

蒸发温度：1220℃
密    度：2.7g/cm3 
熔    点：660℃
沸    点：2467℃ 
汽化温度：1082℃
电 阻 率/μΩ•cm:2.66 
电阻温度系数/℃-1:4.20×10-3
溶 解 于：氢氧化钠，碱类，稀硝酸 
蒸发方式：钨丝或钼舟

蒸发源材料（丝、片）:W
坩    埚:BN、TiC/C、TiB2-BN 
波长/nm 折射率n 消光系数k 反射率/%
220     0.14     2.35   91.8
250     0.19     2.85   92.0
300     0.25     3.33   92.1
340     0.31      3.8    92.3
380     0.37     4.25   92.6
436     0.47     4.84   92.7
492     0.64     5.50   92.2
546     0.82     5.44   90.0
650     1.30     7.11   90.7
700     1.55     7.00   88.8
800     1.99     7.05   86.4
950     1.75     8.50   91.2
2000     2.30     16.5  96.8
4000     5.97     30.3  97.5
6000     11.0     42.2  97.7
8000     17.0     55.0  98.0
10000     25.4   67.3  98.1
应   用：保护膜，反射膜，增透膜
用   途：超纯铝用于制造光电子存储媒体；作为集成电路的配线；